- 书名：超大规模集成电路先进光刻理论与应用
- 出版社：科学出版社
- 作者：韦亚一
- 出版年份：2016
- 电子书格式： pdf
- 简介：《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》由韦亚一教授编著，科学出版社2016年出版。该书深入探讨了光刻技术在超大规模集成电路制造中的理论基础与实际应用，涵盖光刻材料、设备、工艺流程及最新技术发展。适用于半导体行业从业者、研究人员及相关专业的学生，是了解光刻技术的最佳参考书。
- ISBN：9787030482686, 70304
- 下载地址（点击下载）：
声明：本站所有文章，如无特殊说明或标注，均为本站原创发布。任何个人或组织，在未征得本站同意时，禁止复制、盗用、采集、发布本站内容到任何网站、书籍等各类媒体平台。如若本站内容侵犯了原著者的合法权益，可联系我们进行处理。
评论(0)